ПЛАЗМА ТВЁРДЫХ ТЕЛ

Условный термин, означающий совокупность подвижных заряженных ч-ц в тв. проводниках (эл-нов проводимости в металлах или эл-нов и дырок в полупроводниках) в таких условиях, когда их св-ва близки к св-вам газоразрядной плазмы. Это позволяет перенести представления, созданные при исследовании газоразрядной плазмы, в физику тв. тела. П. т. т., в отличие от газоразрядной плазмы, имеет большую плотность n заряженных ч-ц (в газоразрядной плазме n=1012 см-3, в металлах n=1022—1023 см-3, в полупроводниках n=1015—1017 см-3). Это приводит к различию хар-к П. т. т. и плазмы газового разряда. Напр., плазменная частота, пропорциональная ?n, для П. т. т. существенно больше, чем для газоразрядной плазмы. Плазменные эффекты в П. т. т. (особенно в полупроводниках) используются для создания приборов СВЧ.